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曲線標(biāo)準(zhǔn)

振幅
μm/s (μin/s)

Detail Size2
μm

用途描述

Workshop (ISO)

800( 32,000)

N/A

振感明顯。 適用于車間或非振動敏感區(qū)域。

Office (ISO)

400 (16,000)

N/A

可察覺的振動。適用于辦公室及非敏感地區(qū)。

Residential Day (ISO)

200 (8000)

75

幾乎察覺不到的振動。大多數(shù)情況下適合睡眠區(qū)域。通常適用于計算機(jī)設(shè)備、醫(yī)院康復(fù)室、半導(dǎo)體探針測試設(shè)備和小于40倍的顯微鏡。

Op. Theatre (ISO)

100 (4000)

25

不易于察覺的振動。適用于外科設(shè)備，100倍的顯微鏡或其他低靈敏度的設(shè)備。

VC-A

50 (2000)

8

通常適用于400倍的光學(xué)顯微鏡、微天平、光學(xué)天平、接近和投影對準(zhǔn)器等。

VC-B

25 (1000)

3

適用于線寬為3μm的檢查和光刻（包括步進(jìn)機(jī)）。

VC-C

12.5 (500)

1 - 3

適用于1000倍光學(xué)顯微鏡，1μm的檢查/光刻檢查設(shè)備（包括中靈敏度電子顯微鏡），TFT-LCD步進(jìn)/掃描器。

VC-D

6.25 (250)

0.1 - 0.3

適用于要求苛刻的設(shè)備，包括電子顯微鏡（TEM和SEM）和電子束系統(tǒng)。

VC-E

3.12 (125)

< 0.1

一個難以達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)。適用于高靈敏度系統(tǒng)，包括長徑、激光、小目標(biāo)系統(tǒng)、納米尺度的電子束光刻系統(tǒng)，以及其他對動態(tài)穩(wěn)定性要求*的系統(tǒng)。

VC-F

1.56 (62.5)

N/A

適用于極其安靜的研究空間； 通常在大多數(shù)情況下都很難實現(xiàn)，尤其是在潔凈室中。 不建議將其用作設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，僅用于評估。

VC-G

.78 (31.3)

N/A

適用于極其安靜的研究空間； 通常在大多數(shù)情況下都很難實現(xiàn)，尤其是在潔凈室中。 不建議將其用作設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，僅用于評估。

NIST-A

在高于20 Hz的頻率下，NIST-A標(biāo)準(zhǔn)與VC-E曲線相同，但低于此頻率時，則保持恒定位移。 1至20 Hz之間為0.025μm或25 nm; 20至100 Hz之間為3.1μm/ s（125μin / s）

NIST-A1

NIST-A1標(biāo)準(zhǔn)要求小于4 Hz的頻率的RMS速度為3μm/ sec（118μin。/ sec），而對于4 Hz <f <100 Hz的頻率則為0.75μm/ sec（29.5μin。/ sec）速度

VC-H

.39 (15.63)

N/A

適用于極其安靜的研究空間； 通常在大多數(shù)情況下都很難實現(xiàn)，尤其是在潔凈室中。 不建議將其用作設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，僅用于評估。

VC-I

.195 (7.81)

N/A

適用于極其安靜的研究空間； 通常在大多數(shù)情況下都很難實現(xiàn)，尤其是在潔凈室中。 不建議將其用作設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，僅用于評估。

VC-J

.097 (3.9)

N/A

適用于極其安靜的研究空間； 通常在大多數(shù)情況下都很難實現(xiàn)，尤其是在潔凈室中。 不建議將其用作設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，僅用于評估。

VC-K

.048 (1.95)

N/A

適用于極其安靜的研究空間； 通常在大多數(shù)情況下都很難實現(xiàn)，尤其是在潔凈室中。 不建議將其用作設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，僅用于評估。

VC-L

.024 (0.98)

N/A

適用于極其安靜的研究空間； 通常在大多數(shù)情況下都很難實現(xiàn)，尤其是在潔凈室中。 不建議將其用作設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，僅用于評估。

VC-M

.012 (0.49)

N/A

適用于極其安靜的研究空間； 通常在大多數(shù)情況下都很難實現(xiàn)，尤其是在潔凈室中。 不建議將其用作設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)，僅用于評估。

1在8至80 Hz（VC-A和VC-B）或1至80 Hz（VC-C至VC-G）頻率范圍的三分之一倍頻程中測得

2 detail size是指微電子制造情況下的線寬，醫(yī)學(xué)和制藥研究情況下的粒子（單元）尺寸等。與探針技術(shù)，AFM和納米技術(shù)相關(guān)的成像無關(guān)。